半导体超纯水设备：高端芯片制造极致水质装备
半导体芯片制造（尤其是 14nm 以下高端芯片），对水质的纯度要求达到极致，水中的微小离子、颗粒、有机物、微生物等杂质，都会导致芯片电路短路、失效，影响芯片良率
半导体芯片制造（尤其是 14nm 以下高端芯片），对水质的纯度要求达到极致，水中的微小离子、颗粒、有机物、微生物等杂质，都会导致芯片电路短路、失效，影响芯片良率。半导体超纯水设备，融合国际顶尖净化技术，专为高端芯片制造定制，产出符合 SEMI 国际标准的极致超纯水，是半导体高端制造的核心配套装备。
设备采用 “预处理 + 超滤 + 一级反渗透 + 二级反渗透 + EDI 电除盐 + 抛光混床 + 紫外杀菌 + 终端过滤” 七级净化工艺，层层提纯，确保水质达到极致纯度。预处理与超滤环节，去除原水中的悬浮物、胶体、细菌，污染指数（SDI）降至 1 以下；两级反渗透系统，总脱盐率≥99.9%，去除水中所有盐分、重金属、大分子有机物；EDI 电除盐与抛光混床，深度去除残留的阴阳离子，实现离子级提纯；紫外杀菌与终端过滤，杀灭微生物、去除微小颗粒，确保水质无任何杂质。
核心参数达到国际顶尖水平，完全符合 SEMI FAB Grade 1 标准：产水电阻率稳定在 18.2MΩ・cm（25℃，理论纯水值），TOC 含量≤5ppb，颗粒（≥0.05μm）含量≤1 个 /mL，溶解氧≤10ppb，硅去除率≥99.99%，金属离子含量≤0.1ppb，每一项参数都精准把控，杜绝任何杂质影响芯片制造。
设备产水量覆盖 10-500m³/h，适配不同规模半导体工厂需求，采用模块化与智能化结合设计，配备 PLC 智能控制系统与在线监测系统，实时监测每一级净化环节的水质参数，波动范围≤±0.1MΩ・cm，水质不达标时自动报警、切换备用系统，确保供水稳定；支持远程监控、远程调试、故障诊断，实现无人化运维，适配半导体工厂智能化生产需求。
核心部件全部选用国际顶尖品牌，反渗透膜采用陶氏 BW30-4040 超低压高脱盐膜，EDI 模块选用西门子优质组件，使用寿命长达 5 年；设备采用 316L 不锈钢材质，内壁镜面抛光，避免二次污染；配备氮气保护系统，防止超纯水与空气接触，避免溶解氧超标。
此外，设备可配套设计纯水循环系统，确保超纯水在输送过程中保持高纯度，同时适配半导体工厂的无尘车间环境，安装便捷，后期维护简单，为高端芯片制造提供极致、稳定、可靠的水质保障，助力半导体行业技术升级。
浙江新伟环保设备有限公司是一家专业从事水处理工程设备研制、生产、销售及施工为一体的技术型企业，公司拥有十多年的水处理技术，业务范围涉及给水处理，工业纯水和超纯水处理和生活、工业废水处理。