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助力半导体升级,破解5nm制程用水难题

  • 新伟环保
  • 2025-11-29

助力半导体升级,破解5nm制程用水难题随着半导体制程向5nm进阶,超纯水纯度要求已达18.2MΩ·cm极限值,浙江新伟超纯水设备近期成功入驻多家芯片企业,成为制

助力半导体升级,破解5nm制程用水难题

随着半导体制程向5nm进阶,超纯水纯度要求已达18.2MΩ·cm极限值,浙江新伟超纯水设备近期成功入驻多家芯片企业,成为制程升级关键支撑。

该设备集成反渗透与EDI超纯化工艺,核心膜组件进口,脱盐率超97%,完美匹配电子级水EW-I最高标准。在南方光纤3吨级项目中,设备持续稳定供水,助力产品良率提升12%。

依托二十余年技术积累,新伟已拿下5000+电子行业订单,在水利部重点行业节水政策下,以低能耗优势为高端制造降本增效。


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